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デバイスを微細加工するための装置です。有機高分子材料、セラミック系材料、ガラス、金属薄膜など色々な材料の基板上にレーザーを照射し、その照射部分のみを削ることが可能です。様々な加工実験や試作開発に利用できます。 |
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 | 投影倍率可変機能搭載(縮小倍率4から10倍) |
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 | 自動出力可変機能搭載(自動調節範囲は1%刻みで4から95%) |
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 | 最小加工サイズ2μm |
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 | 加工条件最適化プログラム・共焦点レンズ・ビームプロファイラ搭載 |
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<電子部品・医療器具の微細加工> |
有機高分子材料(ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシなど) | セラミック系材料(アルミナ、サファイア、シリコンなど) |
ガラス材(LCD基板パイレックスなど) | 金属薄膜(銅、金など) |
CVDダイアモンド | |
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設置場所: バイオナノテクノロジーセンター(片柳研究所棟6階) |
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