![フェムト秒レーザー超微細加工システム](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/parts_c/02_T.gif) | ![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/pixel.gif) |
![フェムト秒レーザー超微細加工システム](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/parts_c/02_photo.jpg) |
マイクロ光造形法に用いられる装置です。マイクロカンチレバーやマイクロ流路などのマイクロデバイスの製作に使われます。この装置は、新規のマイクロデバイスの開発やタンパク質相互作用の研究、超小型バイオセンサーの製作への応用が可能です。 |
|
| | | | |
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/pixel.gif) |
![フェムト秒レーザー超微細加工システムの特長](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/Label_tokutyou.gif) |
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/pixel.gif) |
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/point_gray.gif) | フェムト秒レーザーによる200nm以下の微細加工が可能 |
| ![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/Dot_line625.gif) |
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/point_gray.gif) | 3次元光造形、細胞加工、流路加工などに利用可能 |
| ![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/Dot_line625.gif) |
| | |
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/pixel.gif) |
![フェムト秒レーザー超微細加工システムの主な仕様](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/Label_siyou.gif) |
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/pixel.gif) |
波長 750nm±10nm |
外部から調整を加えることなく波長シフトが可能で、パルス幅100フェムト秒以内、最大出力0.7W |
セラミック系材料(アルミナ、サファイア、シリコンなど) |
2軸ガルバノミラーによる高速走査(XY方向)応答周波数2kHz以上 |
ピエゾ素子による精密位置決め(Z軸)500μmストローク、分解能3nm |
小型レーザーヘッド 23×14×5インチ、59×35×12cm |
対物レンズ 100倍、NA1・3 |
| |
|
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/pixel.gif) |
設置場所: バイオナノテクノロジーセンター(片柳研究所棟6階) |
| ![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/pixel.gif) |
|
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/pixel.gif) |
![Adobe Reader ダウンロードページへ](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/getAcrobat.gif) |
![](/karl/bionano/bionano2/data/Equipment/_res/Dot_line635.gif) |
|