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| 半導体製造のホトリソ工程においてシリコンウエーハ、ガラスなど平坦な基板にフォトレジスト等を滴下し、基板表面に数ミクロンくらいのフォトレジスト膜を均一に形成させる装置です。 |
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 | コンパクト・多機能設計のコストパフォーマンス機 |
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| マイコン搭載型で回転制御が可能（回転、停止、スローアップ、スローダウン）
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| 多段式、100ステップまで設定可能 |
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| 回転精度の高さ、設定回転数に対して±1rpm(無負荷時)、回転数300〜8,000rpm |
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| プログラム式多機能機 |
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| 角基板等に便利な停止位置設定機能 |
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| 試料はφ4インチまで対応 |
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| 装置寸法：260W×330D×230H（mm）
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| 設置場所： バイオナノテクノロジーセンター（片柳研究所棟6階） |
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